【3月25日】 産業用ガス(NF3、モノシラン等)の基本特性と危険性、リスク対策
（2010年02月01日）
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★液晶パネルや薄膜系太陽電池、半導体チップなどの製造過程に欠かせない産業用ガス(NF3、モノシラン等)の基本特性と企業がとるべきリスク対策を解説!
| 講 師 | 大陽日酸エンジニアリング(株) 技監 金子 晃治 氏 同志社大学 理工学部機能分子・生命化学科 教授 田坂 明政 氏 |
| テキスト 価格 | 1冊につき21,000円(税込、テキスト費用含む) |
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【プログラム】
第1部 「太陽電池」製造用ガスの特性主要ガスの危険性(毒性・爆発性など)と取り扱い
【13:00-14:30】
大陽日酸エンジニアリング(株) 技監 金子 晃治 氏
【講演主旨】
太陽電池の製造に扱われる種々のガスの危険性とその安全な取り扱いについて、事故例や実験データに基づき解説する。
1.高圧ガスの危険な性質(概要)
2.高圧ガスの供給設備
2.1 一般高圧ガス
2.2 特殊高圧ガス
3.高圧ガスを安全に使うには
4.高圧ガスの危険性(事故例から教訓を考える)
4.1 物理的:高圧、透過、重さ
4.2 化学的:可燃性、自然性、支燃性、毒性、腐食性、窒息性
4.3 SiH4(モノシラン)の各種実験データからの考察
【質疑応答 名刺交換】
第2部 産業用ガス(三フッ化窒素を中心)の基本特性と産業に与える影響、技術的打開策
【14:45-16:15】
同志社大学 理工学部機能分子・生命化学科 教授 田坂 明政 氏
【キーワード】
1.クリーニングガス
2.NF3ガスプラズマエッチング
3.NF3ガスの安全性
【講演主旨】
三フッ化窒素(NF3)の歴史、アルミ電解やフッ素電解で起こる陽極効果とNF3の研究始まりとの関連、NF3の物理化学的特性、NF3の化学的反応とドイツ・ゲッティンゲン大学でのフォスファゼン合成、半導体産業関連への応用を考えた背景とその経緯、化審法問題と水ヘの溶解度、各社のNF3製造方法と各製造法の特徴、安全性およびその取り扱い、今後の応用開発等について講演する。
1. はじめに
2. NF3の物性
2-1.物理化学的性質
2-2.水への溶解度
3.NF3の化学反応
3-1.無機化合物との反応
3-2.有機化合物との反応
3-3.加水分解反応
4.NF3の製造方法
4.1 エアープロダクツ法
4.2 セントラル硝子法
4.3 溶融塩電解法(三井化学法)
5.NF3の用途と現状
5.1 半導体用ガスへの応用-他のガスとの比較
5.2 クリーニングガスへの応用
5.3 今後の応用(例:NF3プラズマによるSiCの平滑化)
6.NF3ガスの安全性(毒性や爆発限界組成)
【質疑応答 名刺交換】
