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【4月27日】Q&Aでわかる洗浄技術の基礎と洗浄剤・洗浄装置の使い方、市場動向

（2010年03月28日）

Q&Aでわかる洗浄技術の基礎と洗浄剤・洗浄装置の使い方、市場動向

★半導体メモリの銅配線化での銅の洗浄の課題は?対応は?
★化学物質規制への対応は?　洗浄技術の新規材料は?
★お客様からの事前リクエストを募集!!講義に反映いたします!!

日 時
平成22年4月27日(火)　10:30～15:45
場所産業振興会館 第1研修室　【神奈川・川崎】
講師　第1部　(株)日立製作所マイクロデバイス事業部 製造本部生産技術部　統括主任技師 津金 賢　氏
　第2部　ライオン(株) 研究開発本部　化学品研究所　副主任研究員 藤田 雄太　氏
　第3部　大日本スクリーン製造(株) 半導体機器カンパニー 企画部　担当課長 荒木　浩之　 氏
聴講料       1名につき43,050円(税込、テキスト費用・お茶代含む)

初めてお申込みいただいたお客様は1名につき39,550円(税込、テキスト費用・お茶代含む)
⇒要 (無料会員登録)

昼食代は別途1,050円徴収いたします
※同一法 人 より2名でのお申し込みの場合、 69,300円

　 ⇒
お申込

詳細・お申込み

(↑ をクリックすると詳細・お申込みページが表示されます)

ページ移動後、右下にあるカゴにいれる（人数登録、昼食の有無を設定後）
 

第1部　シリコンウェーハにおける洗浄の基礎と技術Q&A

【10:30-12:00】

(株)日立製作所 津金 賢　氏

【プログラム】

1.半導体製造プロセスにおけるクリーン化Q&A

　Q1.クリーン化って何? 　　 　　

　Q2.要求されるクリーン度(ITRSの考え方)ってどれくらい?　　 　　

　Q3.デバイスに与える汚染の影響 とは?汚染の種類・体系は?


2.ウェットプロセスQ&A

　Q4.ウェットプロセスに用いられる洗浄液とは?

　Q5.洗浄液ってどんなのがあるの?選択の目安は?オススメは?

　Q6.パーティクル汚染って何?　見つけ方は?

　Q7.金属汚染とは?　企業の対策は?　 　　

　Q8.有機物汚染とは?　企業の対策は?

　Q9.汚染の分析?


3.新規プロセス対応洗浄技術Q&A

　Q10.Cu配線工程の洗浄技術は?

　Q11.洗浄技術の新規材料は?


4. お客様から寄せられた事前リクエストへの解答

　Q12 リクエスト

5.総合Q&A

【質疑応答　名刺交換】

第2部　Q&Aで解説する洗浄剤の種類と特性、使い方のコツ

【13:00-14:00】

ライオン(株) 藤田 雄太　氏

【キーワード】

1.水系洗浄剤

2.環境

【講演主旨】

デジタル家電、携帯電話などの急速な発展に伴い、その高機能化を担う電子部品・電子制御部品などの精密部品への要求品質が飛躍的に高まっている。電子部品 はその製造工程で切削油・加工油・液晶剤などの油性汚れ、切削屑・研磨材・樹脂などの粒子汚れなどが付着し、その洗浄が製品の品質と歩留まりに大きく影響 する。これら精密部品の洗浄は、工業用洗浄剤と呼ばれる特殊な洗浄剤が使用されており、近年では環境に配慮した安全性の高い水系洗浄剤が注目されている。

本講座では、水系洗浄剤を中心に、洗浄剤の種類と特性、洗浄メカニズム、環境に配慮したトータル洗浄システムの構築について解説し、様々な工業洗浄分野に おける洗浄剤選定のコツについて報告する。

【プログラム】

1.洗浄剤の種類と特性Q&A　

　Q1.工業用洗浄剤の種類は?

　Q2.工業用洗浄剤の環境への影響は? 　　

　Q3.工業洗浄分野における汚れの種類と最適な基剤、洗浄メカニズムは?

　Q4.水系洗浄剤の高機能化技術とは?　　 　　


2.洗浄剤の使い方Q&A

　Q5.強固な油汚れ(固体油、高粘度油)が付着した部品を洗浄する洗浄剤は?

　Q6.液晶パネル洗浄で使われる洗浄剤は他の洗浄剤と違うのか?　

　Q7.太陽電池基板洗浄で使われる洗浄剤は他の洗浄剤と違うのか?　

　Q8.ハードディスク基板洗浄で使われる洗浄剤は他の洗浄剤と違うのか?

　Q9.環境に配慮した洗浄剤を選ぶには?　

　Q10.環境に配慮した洗浄プロセス設計と管理方法は?


3.お客様から寄せられた事前リクエストへの解答

4.総合Q&A


第3部　半導体洗浄プロセスと装置の最新情報と開発動向(Q&A形式)

【14:15-15:45】

大日本スクリーン製造(株) 　荒木　浩之　氏

【キーワード】

1.パーティクル

2.メタル

3.除去

【講演主旨】

半導体デバイスの微細化に伴い、基板洗浄も変化していきています。本セミナーでは市場の変化、装置の変化、プロセスの変化を中心に説明致します。また、今 後、基板洗浄はどのようになるのか、予測も交えてQ&A、ディスカッションを行いたいと思います。

【プログラム】

1.半導体洗浄装置Q&A　

　Q1.洗浄装置の種類は?洗浄装置の仕組みは? 　

　Q2.主流となっている洗浄装置は?

　Q3.洗浄装置でどんなことができるの?

　Q4.洗浄装置で市場でどんなことが求められているの?

　　　　・半導体メモリの銅配線化での銅の洗浄の課題は?対応は?


2.洗浄装置の使い方・工程Q&A

　Q5.洗浄装置のスペースは?管理基準は?

　Q6.洗浄の工程は?

　Q7.洗浄効率を上げるには?　

　Q8.消耗品は?

　Q9.純水・薬液・排気の使用量は?

　Q10.化学物質規制への対応は?

　　・IPA除去装置とは?その能力とは?更なる課題は?　　 　　

　Q11.搬送は?

　Q12　各工程でユーザーが起こすトラブルは?その対策は?


3.お客様から寄せられた事前リクエストへの解答

　Q13. リクエスト

4.総合Q&A

　Q14.今後の技術は?　動向は?

【質疑応答・名刺交換】

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