6月24日『ナノインプリントでのトラブル対策と樹脂の剥離性・硬化速度向上と評価』
（2011年04月18日）
Tweet★UV樹脂はどういった特徴や樹脂の評価は?離型剤の使い方は?
★トラブルなくアスペクト比を高めるにはどう改善すればいいのか?
★トラブルはなぜ発生するのか?など、やさしく、基礎から解説!
★高機能プラスチックなどへ転写する際の剥離性、離形性の問題を解決します!
ＦＡＸからのお申し込みは下記ＰＤＦパンフレットをご利用ください
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セミナー番号
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S10621 |
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講 師 |
第1部 東京理科大学 基礎工学部 電子応用工学科新材料開発センター 准教授 谷口 淳 氏
第2部 ダイセル化学工業株式会社 研究統括部 コーポレート研究所機能・要素グループ 工学博士 三宅 弘人 氏 |
| 対 象 | ナノインプリント、光学レンズ、光学フィルムをはじめとする表面加工なとの研究者など |
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会 場
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【東京・中央区】都営浅草線・東日本橋駅より徒歩4分など
計画停電の都合で会場が都内近郊の会場に変更する場合もございます。 開催日の1週間前までにご連絡いたします。予めご了承ください。 |
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日 時
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平成23年6月24日(金)13:00-16:15
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| 定 員 | 30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。 |
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聴講料
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| お申込み |  お申込み専用ホームページに移動します |
【13:00-14:30】
第1部 ナノインプリント技術の基本と課題～離型時のトラブル、評価方法
東京理科大学 基礎工学部 電子応用工学科新材料開発センター 准教授 谷口 淳 氏
【講演趣旨】
ナノインプリント技術は、樹脂への転写だけでなく金属への転写も可能となってきており、プリンテッド・エレクトロニクスなどへの応用も可能となってきております。しかし、ここで問題となってくるのが、離型時の金型への樹脂等の付着になります。本講では、離型時のトラブルと評価方法を概説して解決方法を示します。
【プログラム】
1.ナノインプリント技術の基礎
1-1 ナノインプリントの歴史
1-2 ナノインプリントの要素技術
2.ナノインプリントの各種方式
2-1 ロールナノインプリント
2-2 ナノトランスファープリント
3.ナノインプリントにおける離型問題の基礎
3-1 離型処理の種類と方法
3-2 離型処理の評価方法
3-3 耐久試験
4.高アスペクト比モールドを用いた離型性の評価方法
4-1 高アスペクト比モールドの作製方法
4-2 離型処理方法
4-3 離型性評価とその結果
4-4 離型問題の対策方法
5. 新技術動向
5-1 金属の転写方法
5-2 レプリカモールドなど
5-3 まとめ
【質疑応答・名刺交換】
【13:15-14:15】
第2部 UV ナノインプリントにおける樹脂材料開発における課題とその対策
ダイセル化学工業株式会社 研究統括部 コーポレート研究所機能・要素グループ 工学博士 三宅 弘人 氏
【講演の趣旨】
ナノインプリントは、モールドに刻み込まれたナノサイズのパターンを転写する事により簡便にナノサイズの構造体を作成する事ができる技術であり、多くのアプリケーションに適用可能と考えています。使用法により、フォトリソ代替としての利用法も考えられており、今後の大きな市場が期待されております。ただ、乗り越えるべき課題も多く、本講演では、樹脂材料開発から見た課題及びその対応法に関して紹介します。
【プログラム】
1.ナノインプリントについて
1-1 ナノインプリントとは
1-2 何故ナノインプリントなのか?
1-3 ナノインプリントの期待される用途
2.UV ナノインプリント用レジスト
2-1 期待される機能
2-2 要求特性の整理
2-3 要求特性に対する設計コンセプト
3.樹脂設計とコンセプトの検証
3-1 高スループット化の決め手
3-2 基板密着性発現機構
3-3 モールド剥離性向上
3-4 硬化反応性向上
4.UV ナノインプリント材料の新展開
4-1 溶剤現像型レジスト
5. 最近の応用事例の紹介
5-1 表面微細化用途
5-2 リソグラフィー代替用途
5-3 その他
【質疑応答・名刺交換】
